株テーマ:GeO2(二酸化ゲルマニウム)半導体の関連銘柄
二酸化ゲルマニウム(GeO2)関連株。現在主流の半導体材料であるシリコンやシリコンカーバイド、窒化ガリウムなどに比べ、コスト面や様々な特長面で優位性を持ち、新規次世代半導体材料として有望視されているという。
クオルテックは、2023年12月に世界で初めてシリコンカーバイド上のルチル構造二酸化ゲルマニウム成膜に成功したPatentixと資本業務提携した。
二酸化ゲルマニウム(GeO2)関連株。現在主流の半導体材料であるシリコンやシリコンカーバイド、窒化ガリウムなどに比べ、コスト面や様々な特長面で優位性を持ち、新規次世代半導体材料として有望視されているという。
クオルテックは、2023年12月に世界で初めてシリコンカーバイド上のルチル構造二酸化ゲルマニウム成膜に成功したPatentixと資本業務提携した。