（7912）大日本印刷は、次世代半導体向け1ナノ台フォトマスクの開発に成功し、半導体業界における存在感を一段と高めている。この技術は、2030年以降に普及が見込まれる1ナノ台半導体の製造を支える中核的な役割を果たすとされており、同社の事業展開と株価に大きな影響を与える可能性がある。

今回開発されたフォトマスクは、演算用ロジック半導体向けに特化しており、AIや自動運転など次世代技術の性能向上を実現する要素技術だ。ベルギーのimecとの連携や最新鋭の電子ビーム描画装置の導入により、1ナノメートル台という業界最先端の技術水準を達成した。

市場規模の観点から見ると、1ナノ台半導体はその高性能ゆえに需要が急拡大する見込みである。特にEUV（極端紫外線）露光装置向けの需要は大きく、大日本印刷がこの分野で優位性を持つことは、安定した成長基盤を形成する鍵となる。

大日本印刷は、次世代EUV対応のフォトマスク事業に対し、2023年度から2025年度までに200億円を投資する計画を発表している。この資本投資は、先行技術開発や量産体制の構築を通じて競争力を強化するためのものだ。

さらに、2027年度には2ナノ台フォトマスクの量産を開始し、2030年度にはEUV向けフォトマスクで100億円の売上高を目指している。これらの目標が達成されれば、同社の収益基盤は一層安定し、株主還元策の強化も期待される。