レーザーテックはＥＵＶ（極端紫外線）を光源として使い、フォトマスクの欠陥の有無を調べる欠陥検査装置ACTIS「A150」を開発した。A150では微細化に使うＥＵＶ露光装置と同様のＥＵＶ光源を採用し、業界初の技術。A150では3ナノの微細化にも対応出来るとしており、米ＫＬＡテンコールなどの競合企業はＥＵＶ光源の検査装置を開発していないようだ。技術的なハードルが極めて高く、最新鋭半導体分野では他社の追随を許さない。