【ＥＵＶメタルレジスト】ＪＳＲは、ＮＥＤＯ（新エネルギー・産業技術総合開発機構）より公募された「ポスト５Ｇ情報通信システム基盤強化研究開発事業／先端半導体製造技術の開発」で、ＥＵＶ（極端紫外線）露光装置向け次世代フォトレジスト技術開発に対して「1.5ナノメートル世代向けＭＯＲ（メタルオキサイドレジスト）の研究開発が採択された。ポスト５Ｇ情報通信システムや先端半導体を開発するプロジェクト。

ＥＵＶ露光技術では、より微細なパターニングを行うための研究開発が行われており、フォトレジストもそれに対応した高い性能が求められる。ＪＳＲは、高い開口数のＥＵＶ露光に対応した新たなフォトレジストであるＭＯＲの製品技術を確立する。ＣＤＭＯとともにＥＵＶ関連としても注目される。