株テーマ：ＥＵＶフォトマスクの関連銘柄
ＥＵＶフォトマスクは、ＥＵＶマスクブランクスの表面に半導体チップの回路原版を形成したもので、表面に装着する薄い保護膜がペリクル。
半導体回路の原版となるフォトマスクは凸版印刷と大日本印刷が生産しており、三井化学はＡＳＭＬとペリクル事業のライセンス契約を締結しており、生産権及び生産販売権を取得している。
三井化学は、2021年5月26日、半導体回路の原版を保護する薄膜材料であるEUVペクリルの商業生産を開始したと発表した。三井化学は半導体リソグラフィー分野で世界No1のASMLからライセンス契約を受け、EUVペリクルの生産設備を岩国大竹工場内に新設し、商業生産を行う。
ペリクルは露光装置で半導体ウエハーにレーザーを当てて回路を描く際、原版に傷やホコリが付着するのを防ぐ薄膜材料で、材料にカーボンナノチューブ（CNT）を採用し、ASMLの次世代装置の投入に対応する。山口県の工場に50億～90億円を投じて、25～26年に性能を高めた製品を量産する。
三井化学とimecは、2023年12月13日、極端紫外線(EUV)露光用のカーボンナノチューブ(CNT)膜を使用した次世代ペリクルの事業化に向けた戦略的パートナーシップ契約を締結した。三井化学は、自社のCNTペリクル技術にimecの持つCNTペリクルの基盤技術を融合させ、2025年から2026年をターゲットに高出力EUV露光向け製品の導入を目指す。
トッパンフォトマスクはＩＢＭと、次世代半導体向けの高NA EUV（極端紫外線）を含む、EUVリソグラフィを使用した2ナノメートルのロジック半導体プロセス対応のフォトマスクに関する共同研究開発契約を締結した。
ラピダスに供給するとみられ、2026年の量産開始を目指す。ラピダスは27年から2ナノ品の量産を始めることを目指しており、ＩＢＭから設計技術の供与を受ける予定。
