TSMCは極端紫外線 (EUV) リソグラフィの導入において、サムスンに先を越されたものの、現在では世界最大のEUV利用者である。この豊富な経験により、生産性向上やコスト削減など、EUV装置の活用法を洗練させてきた。

2019年、初めてEUVリソグラフィを採用した。当時、世界に設置されたEUV装置の42%を保有しており、ASMLがEUV装置の出荷量を増やした2020年にも、そのシェアは50%に上昇した。そして2024年現在、TSMCは2019年比でEUV露光装置台数を10倍に増やし、サムスンやインテルがEUV生産を強化しているにも関わらず、世界のEUV装置設置ベースの56%を占めている。

特筆すべきは、TSMCのEUVウエハー生産量がさらに大幅に増加していることである。現在、TSMCは2019年比で30倍ものEUVウエハーを生産している。装置台数の10倍増と比較すると、この生産量30倍増は、TSMCがEUV生産性を向上させ、保守時間を短縮し、装置のダウンタイムを全体的に削減できたことを示している。これら全ては、TSMCが独自に開発した革新技術によって達成されたものである。

TSMCはEUVリソグラフィ技術の先駆者として、その技術を不断に改善し続け、世界の半導体製造の最前線に立ち続けている。