米マイクロン・テクノロジーが、日本政府から2000億円の支援を受け、広島工場で次世代DRAMの生産を目指す。今回の投資でマイクロンは広島工場にオランダのASMLホールディングの極端紫外線（EUV）露光装置や東京エレクトロンの関連装置を導入し、DRAM量産体制を構築する。

マイクロンが手掛けるのは同社がEUVを光源としたリソグラフィ技術による1γ（ガンマ）世代と呼ばれる製品で、2024年までの量産開始を目指している。広島工場はマイクロンによる1γ世代のDRAM量産全体の約3分の1を担う予定。マイクロンが今回、全体としてどの程度の投資を行うかは明らかになっていない。

日本の半導体メーカーの地位が大きく低下した一方、東京エレクトロンやアドバンテスト、SCREENなど半導体製造装置メーカーや、半導体製造に使われる素材のメーカーは、今も世界市場で高い競争力を維持している。

半導体産業の復興を目指す日本にとって、今回のマイクロンの投資決定は大きな意味を持つ。国内で最先端半導体関連の研究や量産体制が整えられるのは日本のサプライヤーなどが国際的に競争力を維持・強化させていくのに有利に働くからだ。

日本政府はこれまで数千億円を投じて台湾積体電路製造（TSMC）の工場を熊本県に誘致したり、米IBMと技術提携を結んで最先端半導体部品の量産を目指すラピダスの設立支援を決定したりしている。マイクロンにも昨年、現行最先端となる1β（ベータ）世代の製品の広島での量産のため、465億円を助成していた。