三菱ケミカルは、洗浄剤やエッチング材料などの半導体材料の開発・生産体制を強化する。半導体回路形成時に使用されるフォトレジスト用感光性ポリマー「リソマックス」や、ウエハー枚葉洗浄剤「ＡＭ１」、レジスト表面に発生する電子の蓄積を防止するためのフォトマスク帯電防止剤「アクアセーブ」などを製造している。

福岡事業所に専用の試作棟を新設し、開発スピードを上げていく。5月にはＧａＮ（窒化ガリウム）単結晶基盤の量産実証設備も竣工させており、2022年度から市場供給を目指している。需要が増加するパワーデバイスに対応する。