レーザーテックは、フォトマスクやマスクブランクスの欠陥を検査する装置で世界シェア90％以上を誇る。足元では受注が低迷しているが、2ナノプロセス対応の「Actis A300」の受注が期待されている。

2ナノ以降はEUV露光装置では次世代の以下ハイNA機の生産ラインへの設置台数が増加すると予想される。「Actis A300」は、新型光源「URASHIMA」を搭載した高性能機だが、すでに複数台の受注を得ているようだ。

「Actis A300」の特徴は、ペリクル付きマスクへも対応することだ。3ナノまではペリクルを使わないケースもあったが、2ナノではわずかなごみでも付着させるわけにもいかず、ペリクルを使わざるを得ないと見られている。

ASMLは、次世代装置の投入を予定しているため、（4183）三井化学は50億～90億円を投じて工場を増設し、25～26年に従来品より性能を高めた製品を量産する。このタイミングにあわせて、レーザーテックの受注も回復すると見て良さそうだ。