大日本印刷は、ラピダス向けに回路形成に使う原版「フォトマスク」を2027年度に国内で量産する。2ナノ品向けのフォトマスクで、半導体の基板であるシリコンウエハーに回路を形成する露光工程で使う。

24年度中にフォトマスクに微細な回路の形状を描く専用装置を導入し、総額500億円規模を投じるとみられる。

大日本印刷は、半導体製造の最先端プロセスに適用されるEUV（極端紫外線）リソグラフィに対応した、3ナノプロセス相当のフォトマスク製造プロセスを開発している。EUVリソグラフィ向けフォトマスクの製造で世界トップクラスのシェアを有している。