（7751）キヤノンは、半導体製造装置市場で再び存在感を高めるべく、フッ化アルゴン（ArF）露光装置に再参入する計画を発表した。ArF露光装置は、半導体製造の微細化に不可欠な技術であり、同分野への復帰はキヤノンにとって重要な戦略転換となる。

ArF露光装置は、光源としてフッ化アルゴンを用い、極めて微細な回路を半導体基板に形成する装置だ。スマートフォンや高性能コンピュータ向け半導体の製造で使用され、微細化が進む現代の半導体産業において欠かせない技術となっている。

ArF露光装置市場では、オランダのASMLや日本のニコンがリードしてきた。一方で、キヤノンは長らくこの分野から撤退していたが、今回の再参入は、市場需要の高まりと新技術の開発が背景にある。

特に、自動車向け半導体やIoT（モノのインターネット）関連デバイスの製造が増加しており、これらの分野での競争力強化を狙っている。また、技術革新により、製品のコストパフォーマンス向上や省エネ性能の向上が見込まれることも、再参入を後押しした要因だ。

キヤノンは、再参入に向けた製品開発や販売体制の強化を急いでおり、数年以内に本格的な展開が期待される。モルガン・スタンレーは投資評価「オーバーウェイト」を継続し、目標株価を5700円から6200円へ引き上げ、一段高を示唆している。