前期営業利益は32.9％減の293億円、純利益は57.7％減の157億円となったが、今期営業利益は43％増の420億円、純利益は58.4％増の250億円へ急回復する見通し。最先端ロジックでEUVシェアが拡大しており、最近の半導体株上昇には完全に出遅れていた。

半導体の製造工程の前工程で主に使われる感光性材料のフォトレジストと、露光技術進化により微細化が進んだことで、半導体の性能はかつてとは比べものにならないほど向上した。半導体の製造工程に必須のフォトレジストは、日本企業5社で世界シェアの9割を占めるといわれている。ＪＳＲもトップクラスに位置しており、ベルギーの半導体研究機関であるimec（アイメック）との共同研究で、ArFフォトレジスト、液浸ArFフォトレジスト、液浸トップコート、EUVフォトレジストなどさまざまな材料の開発で成果を上げてきた。

imecは、半導体の国内生産を目指すラピダスに、極端紫外線（EUV）露光技術で支援し、2027年に回路線幅が2ナノメートルのロジック半導体を量産する計画となっている。