コマツの子会社にＥＵＶ半導体リソグラフィの光源を開発するギガフォトンがある。ギガフォトンは、世界有数の露光用エキシマレーザメーカーで、日本やアジアではほぼ全ての半導体メーカーと取引がある。現在、エキシマレーザに代わる次世代リソグラフィ光源として注目されているＥＵＶ（極端紫外線）光源の開発を進めているが、真のターゲットはＡＳＭＬがＥＵＶの次世代装置に賭けているようだ。22年には投入される見通しとなっている。

ＥＵＶ光源ではウシオ電機が先行しており、既に量産向けとして検査装置メーカーに納入している。ＥＵＶによる微細化競争は始まったばかりで、ギガフォトンも再浮上に向けた準備を進めているようだ。