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2024/5/2 07:57
(4369) トリケミカル研究所 HBM向け高誘電材料「High―K」引き合いが旺盛
トリケミカル研究所は、90億円を投じて新工場「南アルプス事業所」を建設する。2025年3月に竣工、2025年前半の操業開始を目指しており、次世代半導体用新規エッチング材料などを生産する。
中期計画では、2027年1月期に売上226億円(2024年1月期:112億円)、営業利益61億円(同19億円)、経常利益76億円(同32億円)、純利益56億円(同24億円)を目指している。売上高営業利益率で 25%程度の水準を維持する。
前期決算では、DRAM向け「High―K」材料が大幅減となっていたが、今期はメモリー半導体の稼働は後半にかけて徐々に回復し、中国向け売上が大幅増の見込みとなっている。次世代3D NAND用エッチング材料に期待がかかる。
HBM市場は年率50%以上の成長が続くと見られる。HBM技術が脚光を浴びるのは、機械学習型AIの普及が進み、大容量データ処理のために超高速DRAMが必要となったためだ。トリケミカル研究所はHBM向けなどで引き合いが旺盛な「High―K」で、商機を捉える可能性が高い。「High―K」はシリコン酸化物よりも高い誘電率を有し、絶縁膜材料として半導体の性能向上に向け大きな役割を担う。
中期計画では、2027年1月期に売上226億円(2024年1月期:112億円)、営業利益61億円(同19億円)、経常利益76億円(同32億円)、純利益56億円(同24億円)を目指している。売上高営業利益率で 25%程度の水準を維持する。
前期決算では、DRAM向け「High―K」材料が大幅減となっていたが、今期はメモリー半導体の稼働は後半にかけて徐々に回復し、中国向け売上が大幅増の見込みとなっている。次世代3D NAND用エッチング材料に期待がかかる。
HBM市場は年率50%以上の成長が続くと見られる。HBM技術が脚光を浴びるのは、機械学習型AIの普及が進み、大容量データ処理のために超高速DRAMが必要となったためだ。トリケミカル研究所はHBM向けなどで引き合いが旺盛な「High―K」で、商機を捉える可能性が高い。「High―K」はシリコン酸化物よりも高い誘電率を有し、絶縁膜材料として半導体の性能向上に向け大きな役割を担う。