三井化学は、液晶や有機ＥＬなどのフラット・パネル・ディスプレー（ＦＰＤ）の露光工程で使用するＦＰＤペリクルで世界トップシェアを占めている。旭化成のペリクル事業を取得しており、事業ポートフォリオ変革における、第３の柱へ成長させる事を目指している。次世代の極端紫外線（ＥＵＶ）ペリクルを実用化する計画で、2025年から2030年にかけて、量産体制を整える。

ＥＵＶペリクルは、半導体の回路を形成する際に、フォトマスクの表面に付着する異物を防ぐために使われる薄膜の保護カバー。ＥＵＶは波長が短いため、フォトマスクに傷やホコリが付着すると、回路の精度が低下する。従来のＥＵＶペリクルに比べて、耐熱性や耐摩耗性を向上させる。。

深紫外線（ＤＵＶ）を光源とした半導体の露光工程で使用されるＤＵＶペリクルにおいても、市場で高い評価を受けており、新製品の開発や最先端技術の向上を進め、世界トップの総合ペリクルメーカーを目指す。