7911 TOPPAN HD
2024年5月9日 株価 | |||
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3,734円
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3,789円
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3,714円
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3,747円
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402,000株
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オシレータ分析 | トレンド分析 | 予想レンジ | |
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3,900円
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3,600円
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- AI同時通訳
- EUVフォトマスク
- ispace(アイスペース)
- 液晶カラーフィルター
- 民間出資企業
- マグネシウム電池
- 培養肉
- 生分解プラスチック
- 電子書籍(マンガアプリ)
- ZMP
- 静脈認証
- LIBTEC
- 太陽電池保護材(バックシート)
- デジタルサイネージ
- 電子ペーパー
- 東京五輪オフィシャルパートナー
- タッチレス
- 燃料電池触媒
- 水泳・パリ五輪
- バスケットボール・パリ五輪
- ラグビー・パリ五輪
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- 半導体パッケージ
- フォトマスク
- 味覚・匂いセンサー
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- 有機EL照明
- 2ナノプロセス
- 次世代半導体用フォトマスク
- 量子イノベーションイニシアティブ協議会
- 量子暗号
- キュナシス
- AGV(自動搬送車)
オシレータ分析
オシレータ系指標は、相場の強弱動向を表した指標で、日々の市場の値動きから、株価の水準とは無関係に売り・買いを探ります。
売買シグナルは 内にまたはで表示されます。
RSI | 9日 65.28 | RCI |
9日 66.67 13日 85.71 |
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ボリンジャーバンド |
+2σ 3888.08 -2σ 3447.08 |
ストキャススロー |
S%D 45.19 %D 75.71 |
ストキャスファースト |
%K 99.14 %D 75.71 |
ボリュームレシオ | 14日 51.39 |
移動平均乖離率 | 25日 0.78 | サイコロジカル | 12日 58.33 |
トレンド分析
トレンド系指標は、相場の方向性・強さを判断する指標で、中長期の分析・予測に使われます。トレンド転換時は内にまたはで表示されます。現在のトレンドはまたはで表示されます。
DMI | MACD | ゴールデンクロス | |||
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5日移動平均(位置) | 5日移動平均(向き) | 25日移動平均(位置) | |||
25日移動平均(向き) | パラボリック |
チャート分析
酒田五法や一目均衡表などローソク足変化シグナル(当日示現のみ)は、内にまたはで表示されます。独自のHAL指数で高値圏、安値圏を判定し、実戦的なシグナルです。
十字足 | はらみ十字 | 上ひげ・下ひげ |
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出会い線 | 三点童子 | 三点童子(安値・高値) |
包み足 | 赤三兵・黒三兵 | 並び赤・並び黒 |
明けの明星・宵の明星 | 三役好転・三役逆転 | 雲上抜け・下抜け |
転換線上抜け・下抜け | 遅行線上抜け・下抜け | 五陽連・五陰連 |
7911 TOPPAN HDの投資戦略
7911 TOPPAN HDの株価は、オシレーター系指標では中立圏で推移しています。トレンド系指標は上昇トレンド継続中で、押し目買いゾーンです。オシレータ系指標は「買われ過ぎ」、「売られ過ぎ」を示すテクニカル指標の総称です。一定の範囲で動くため振り子系指標とも呼ばれます。RSIやストキャスティクスが代表的です。トレンドフォロー系指標は、株価が上がり続けると指標も上がり、下がり続けると指標も下がるタイプです。移動平均やMACDが代表的です。
7911 TOPPAN HDのテクニカル売買シグナル
株式売買シグナルが点灯しています。このページ下部のオシレーター分析、トレンド分析、チャート分析でご確認ください。オシレーター分析、チャート分析では変化点をキャッチした日に売り買いサインが点灯、トレンド分析では現在の方向を矢印で示します。
7911 TOPPAN HDの関連ニュース
従来のSiインターポーザーは、円形のウエハーからしか製造できず、生産量増加に制約があった。一方、ガラスや有機材料を用いることで、長方形のパネルサイズでのインターポーザー製造が可能となり、生産量増加が期待できる。
特に有機材料の再配線層(RDL)を使ったインターポーザー(RDLインターポーザー)は、実用化に向けて半導体の設計能力が不可欠であり、半導体設計サービスを手がけるTOPPANの強みが生かせる。新設された開発センターでは、RDLインターポーザーの開発に注力し、早期の実用化を目指す。
TOPPANは、クリーンルーム内に製造ラインを構築し、TSMCの2.5D実装向け基板も手がけている。TSMCの7ナノプロセスまで対応しているほか、5ナノプロセスの一部にも対応する。
ラピダスに供給するとみられ、2026年の量産開始を目指す。ラピダスは27年から2ナノ品の量産を始めることを目指しており、IBMから設計技術の供与を受ける予定。
2ナノなど先端半導体ではArFエキシマレーザーを光源とする露光技術をはるかに超えるEUV露光装置を使う。先端半導体向けのフォトマスクは大日本印刷も3ナノに対応している。
2024年2月から5年間、ナノ電子工学の研究開発を目的としたNY州の産学官コンソーシアムとトッパンフォトマスクの朝霞工場で、フォトマスク開発を共同で行う。
トッパンフォトマスクは、EUV露光用マスクや基板材料の開発と製造に積極的に取り組んでいる。これまで両社は45ナノを皮切りに、32ナノ、14ナノといった各世代の先端半導体用フォトマスクや、初期段階のEUVフォトマスクの研究・開発を、2005年から2015年にかけて共同で推進していた。
具体的には、プログラマーが開発するプログラムの要件を生成AIに入力することで、要件を満たすプログラムの概要を短時間で作成できるようになった。また、プログラムのコード作成においても、生成AIが自動で生成したコードをプログラマーが修正するだけで済むようになった。これにより、プログラマーは、プログラムの要件定義や設計に集中できるようになり、開発期間の短縮や品質向上につながった。
凸版印刷は、コンバーティング事業および透明蒸着バリアフィルム「GL BARRIER」のグローバル展開を加速し、2025年度までに海外パッケージ関連事業で売上高1500億円を目指している。凸版印刷の透明蒸着バリアフィルム「GL FILM」は、食品から医療・医薬、産業資材に至る幅広い分野で採用されている。
一般的なロールtoロール方式ではなく、電解質膜1枚1枚に対して触媒を直接塗布して作るため、電解質膜と触媒層が密着し、部材のエネルギーの変換効率が高まる。さらに触媒層に独自の添加材を使うことで、部材の寿命を従来の2.5倍程度に伸ばせるという。