6920 レーザーテック
2025年2月5日 株価 | |||
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15,985円
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15,985円
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15,320円
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15,560円
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7,204,900株
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オシレータ分析 | トレンド分析 | 予想レンジ | |
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17,000円
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14,000円
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みんなの予想 | |||
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上がる 50% |
下がる 50% |
平均予想株価 15,475円 |
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この銘柄の株価は |
オシレータ分析
オシレータ系指標は、相場の強弱動向を表した指標で、日々の市場の値動きから、株価の水準とは無関係に売り・買いを探ります。
売買シグナルは 内にまたはで表示されます。
RSI | 9日 59.94 | RCI |
9日 60 13日 18.13 |
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ボリンジャーバンド |
+2σ 17017.43 -2σ 14196.45 |
ストキャススロー |
S%D 47.05 %D 55.07 |
ストキャスファースト |
%K 77.78 %D 55.07 |
ボリュームレシオ | 14日 61.48 |
移動平均乖離率 | 25日 1.91 | サイコロジカル | 12日 58.33 |
トレンド分析
トレンド系指標は、相場の方向性・強さを判断する指標で、中長期の分析・予測に使われます。トレンド転換時は内にまたはで表示されます。現在のトレンドはまたはで表示されます。
DMI | MACD | ゴールデンクロス | |||
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5日移動平均(位置) | 5日移動平均(向き) | 25日移動平均(位置) | |||
25日移動平均(向き) | パラボリック |
チャート分析
酒田五法や一目均衡表などローソク足変化シグナル(当日示現のみ)は、内にまたはで表示されます。独自のHAL指数で高値圏、安値圏を判定し、実戦的なシグナルです。
十字足 | はらみ十字 | 上ひげ・下ひげ |
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出会い線 | 三点童子 | 三点童子(安値・高値) |
包み足 | 赤三兵・黒三兵 | 並び赤・並び黒 |
明けの明星・宵の明星 | 三役好転・三役逆転 | 雲上抜け・下抜け |
転換線上抜け・下抜け | 遅行線上抜け・下抜け | 五陽連・五陰連 |
6920 レーザーテックの投資戦略
6920 レーザーテックの株価は、オシレーター系指標では中立圏で推移しています。トレンド系指標は上昇トレンド継続中で、押し目買いゾーンです。オシレータ系指標は「買われ過ぎ」、「売られ過ぎ」を示すテクニカル指標の総称です。一定の範囲で動くため振り子系指標とも呼ばれます。RSIやストキャスティクスが代表的です。トレンドフォロー系指標は、株価が上がり続けると指標も上がり、下がり続けると指標も下がるタイプです。移動平均やMACDが代表的です。
6920 レーザーテックの関連ニュース
成長の原動力は半導体関連装置事業で、売上高は1,030億円(同27.1%増)を記録。特にEUVマスク欠陥検査装置の需要が堅調だった。一方、サービス事業は222億円(同70.6%増)と大きく伸びた。AIやデータセンター向けの半導体投資が追い風となったが、パワー半導体分野では投資が低調である点も注視すべきだ。
財務状況は健全で、自己資本比率は62.3%(前年同期比6.5ポイント上昇)。今期の配当は115円→173円(年間288円)へ増額予定と、株主還元にも積極的だ。通期業績予想は据え置き、売上高2,400億円(前年比12.4%増)、営業利益1,040億円(同27.8%増)、純利益740億円(同25.3%増)を見込む。
株価は既に高水準だが、半導体市況の回復とともに成長期待は依然として強い。今後もEUV技術を軸にした成長戦略が続けば、更なる上昇余地もありそうだ。
DRAMは中国企業の大型投資と歩留まり向上により、供給圧力が高まっている。当該企業の価格攻勢は業界の投資意欲にマイナスだ。フラッシュメモリは、需要が盛り上がらず、メモリメーカーは本格的な投資再開に至っていない。ロジックファウンドリはTSMC以外は投資削減だ。
米国政府の対中半導体輸出規制強化によって、日本の半導体製造装置メーカーの中国向け売上は今後、減速の見込みだ。CoWoS及びHBM用の装置の特需があり、中国の国産化のモチベーションがそれほど高くない後工程装置に比べ、前工程装置の需要減速のリスクは高い。
(8035)東京エレクトロン:3万5500円から3万1200円へ
(6525)KOKUSAI ELECTRIC:3900円から3400円へ
(7735)SCREENホールディングス:1万3700円から1万2200円へ
(6728)アルバック:1万2100円から1万700円へ
(6920)レーザーテック:2万8000円から2万4000円へ
半導体市場は、生成AIやIoT、5G/6G、データセンターなど様々な用途で中期的に拡大することが予想される。また、半導体デバイスは、微細化に加え、新構造や新素材開発による高性能化や消費電力低減が求められており、半導体製造装置市場も中長期的に拡大することが見込まれるとしている。
生成AI向けHBM(広帯域メモリ)関連、世界的なEVシフトや脱炭素化の進展を背景としたパワー半導体関連には堅調な投資が継続され、最先端のEUV(極端紫外線)リソグラフィを用いた半導体製造能力の増強に関わる投資にも回復の兆しが見られる。
通期計画の営業利益670億円に対する進捗率は87.6%に達している。売上営業利益率は38.4%から42.4%に上昇した。
2ナノ以降はEUV露光装置では次世代の以下ハイNA機の生産ラインへの設置台数が増加すると予想される。「Actis A300」は、新型光源「URASHIMA」を搭載した高性能機だが、すでに複数台の受注を得ているようだ。
「Actis A300」の特徴は、ペリクル付きマスクへも対応することだ。3ナノまではペリクルを使わないケースもあったが、2ナノではわずかなごみでも付着させるわけにもいかず、ペリクルを使わざるを得ないと見られている。
ASMLは、次世代装置の投入を予定しているため、(4183)三井化学は50億~90億円を投じて工場を増設し、25~26年に従来品より性能を高めた製品を量産する。このタイミングにあわせて、レーザーテックの受注も回復すると見て良さそうだ。