韓国のケムトロニクスが、日本が対韓輸出管理強化をとった品目に一つであるＥＵＶ用フォトレジストの原料となる「プロピレングリコールメチルエーテル酢酸（ＰＧＭＥＡ）」を超高純度(純度99.999％)で生産することに成功した。ケムトロニクスは製造法の特許申請を行い、約200億ウォン(約20億円)を投じて、2022年年末をめどにＰＧＭＥＡ製造工場を立ち上げるとしている。これまでは日本と中国から輸入していた。

日本が輸出管理を強化して以来、韓国は主要部材の国産化を進めていたが、ＥＵＶに対応するＰＧＭＥＡは最も難しい技術の一つとされてきた。日本企業が核心技術の技術特許を多く押さえてきたが、量産化するとなると、日本の素材メーカーの脅威となりそうだ。